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第110章 近接式光刻机微米级微调机构(第1页)

次日,早。

江阳醒来后,简单的洗漱完。

便立刻前往应物所。

到了地方。

在江阳进到所里,一路往半导体研究室走的时候。

不停有人和他打招呼,道:

“江教授好!”

“江教授,您今天来的好早啊!”

“江教授,我有个问题想请教你——”

面对众人的问好。

江阳放缓脚步,一一回应。

就在这时。

远处的王寿吾也看到了他,连忙小跑过来,道:

“江教授,您今天平时来的早许多呀!”

江阳颌首道:

“有了些新的想法,想跟您和黄教授、林教授讨论。”

闻言,王寿吾目光大亮,道:

“没问题,我这就去叫他们!”

不多时。

王寿吾带着黄琨和林岚因,来到办公室。

一进门。

他们便看到江阳正拿着一块小黑板。

在上面写下:

光学系统、精密机械、光刻胶与化学工艺。

林岚因眼神微凝,道:

“江教授您这是打算解决光刻机的问题了吗?”

一旁的黄琨。

神色同样振奋不已。

没办法。

原先使用的简易光刻机,效果几乎已经被压榨到极限。

他们再怎么去优化。

集成电路的集成度,都无法突破40。

江阳回过头,道:

“没错。”

“我也不瞒你们,前些天郭院长来找我,我夸下海口。

“说要研制1000w次每秒运算速度的计算机。”

他说完后。

王寿吾三人你看我,我看你,都以为是自己听错了。

1000w次每秒。

别说是他们。

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